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海德平面研磨機

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      研磨拋光技術

      單面研磨拋光機加工原理

      發表時間:2019-07-17
           Lapping / polishing 是經由游離顆粒(free-abrasive)作用于磨盤與平面工件之間,施以適當之壓力于工件,而對工件所產生的無方向性紋路表面切削效果,當研磨顆粒變細與研磨盤 ( 拋光皮 ) 配合,則工件表面可達鏡面效果,以研磨動作而言單面機為2ways。
       
           平面研磨拋光機臺可應用于不同材質平面工件,于加工時同時控制磨盤平坦度,提高工件精度,降低表面粗糙度,達到奈米鏡面效果,而研發部門根據客戶之獨特需求,提供制程解決方案,使其能達到客戶全方位需求。


      圖標平面研磨拋光機加工時作動原理。
       
       可依制程選配各式不同客制化的功能
       
       1.磨盤冷卻循環系統
       
       2.研磨液供應系統
       
       3.厚度控制治具
       
       4.POWER HEAD
       
       5.POWER ARM
       
      6.搖擺機構
       
       7.厚度設定
       
       8.真空吸盤
       
      平面研磨拋光機加工范例 :
      不銹鋼鏡面模具、真空吸盤、半導體芯片(eg : silicon wafer GaAs、GaP、LiNbO3、LiTaO3、etc),水晶玻璃(Sapphire),陶瓷零件、碳化鎢零件、銅鋁零件、超音波焊頭、震蕩子零件、Ferrite,機械軸封,移印鋼版、針車零件、玻璃、石英。


       
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